Поверхностные слои, состоящие из сплава селена и теллура, напыленных на пленку аморфного селена, служили объектом обширных экспериментальных работ. Использовались поверхностные слои, содержавшие до 35% теллура. Скорость потенциала увеличивалась с ростом концентрации теллура. Эти слои имеют панхроматическую чувствительность в видимой области спектра. Их светочувствительность почти на порядок больше чувствительности аморфного селена. Эти результаты справедливы для случая положительной зарядки. Для случая отрицательной зарядки результаты не сообщались. Основные трудности с поверхностными покрытиями, предназначенными для увеличения спектральной чувствительности, состоят в том, что эти материалы являются плохими изоляторами по сравнению с аморфным селеном и разрушают естественный поверхностный барьер селена, ответственный за сохранение зарядов. Это имеет место при использовании в качестве поверхностных покрытий любых фотопроводников с узкой запрещенной зоной. Поверхностные слои этих материалов ведут себя подобно электродам на поверхности аморфного селена, создавая возможность для инжекции зарядов с поверхности слоя в его объем. Своеобразное решение этой проблемы было предложено в работе, где были получены многослойные структуры, в которых слой фотопроводящего материала находился между толстым (около 50 мк) слоем аморфного селена и прозрачной проводящей подложкой. В этом случае естественный барьер поверхности селена может быть использован для сохранения заряда, в то время как увеличенная спектральная чувствительность фотоактивного слоя используется при освещении его через прозрачную подложку. Были использованы фотоактивные слои гексагонального селена и сплавы селена с теллуром. При положительном поверхностном заряде освещение фотоактивного слоя заставляет электроны, инжектированные из этого слоя, проходить через слой аморфного селена. Обыкновенно сдвиг электронов в аморфном селене очень мал и, следовательно, трудно ожидать, чтобы этот тип ксерографической структуры обладал характеристиками, необходимыми для высокочувствительных ксерографических пластин. Эта задача была решена путем включения легирующего материала в аморфный слой, чтобы обеспечить большой сдвиг электронов. ?