Когда ксерографические пластины подвергаются повторным циклам зарядки и экспонирования, приходится иногда сталкиваться с эффектом, известным под названием «усталость» пластины. Этот эффект сказывается в увеличении темнового спада потенциала пластины, т. е. в уменьшении темновой устойчивости. «Усталость» аморфного селена вызывается увеличением в фотопроводящем слое захваченных зарядов, которые создают сильное электрическое поле на границе между слоем и проводящей подложкой. Эти захваченные внутри слоя заряды вызывают также увеличение остаточного потенциала. В слоях, образованных диспергированием фотопроводников в связующем, таких, как слой из окиси цинка, «усталость» проявляется в сохранении проводимости и после освещения. Если «усталой» пластине дать «отдохнуть» в темноте, она полностью восстанавливает свои первоначальные свойства. «Усталость» не играет большой роли, если период между циклами велик или если пластины можно менять в процессе работы. Однако в автоматических машинах при быстрой смене циклов эффект «усталости» причиняет неприятности. При изготовлении пластины из аморфного селена «усталость» можно уменьшить, контролируя процесс напыления селена в вакууме. Слои из окиси цинка также обнаруживают «усталость» при многократном использовании, однако в основном они в ксерографии используются однократно в качестве фотопроводящего покрытия бумаги.